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2013-05-23 12:21
求翻译：Ultratech modified a lithography tool used for semiconductor manufacturing to better meet the cost and performance targets of the high brightness LED manufacturing industry. The goal was to make the equipment compatible with the wide range of substrate diameters and thicknesses prevalent in the industry while reducing 是什么意思？ 待解决
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Ultratech modified a lithography tool used for semiconductor manufacturing to better meet the cost and performance targets of the high brightness LED manufacturing industry. The goal was to make the equipment compatible with the wide range of substrate diameters and thicknesses prevalent in the industry while reducing
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
雅达修改了光刻工具用于半导体制造的高亮度的LED行业更好地满足成本和性能目标。其目标是，使设备兼容广泛的基底直径和厚度普遍在行业内，同时降低资本成本和总体拥有成本（COO）。该项目已经非常成功，通过最近比较新的工具和传统的接触式光刻的运作在商业晶圆制造工厂的两条平行生产线的基础上，已被证明的产量和吞吐量的好处。这个比较实用的表现出非常显着的产量好处，使用新的工具，实现了投资回报率只在3个月内的的雅达光刻工具。 （2012年6月）
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2013-05-23 12:23:18
ultratech修改了一个平版印刷工具,用于半导体制造业,更好地满足成本和性能目标的高亮度LED的制造业。 这方面的目标是,使设备兼容的宽范围的基材直径和厚度在业界普遍在降低资本成本和总体拥有成本(COO)。
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2013-05-23 12:24:58
Ultratech修改了用于半导体的石版印刷工具制造改善集会高亮度LED制造工业的费用和业绩指标。 目标是制作设备与大范围基体直径和厚度兼容流行在产业，当减少基建成本和归属时(COO的)总成本。 项目是非常成功的，并且出产量和生产量好处通过最近比较在一种商业薄酥饼制造设施之内被展示了在根据二条平行的制造业线的操作和常规联络石版印刷之间的新工具。 这实用比较使用在三个月的只导致新工具达到一种返回在投资的Ultratech石版印刷工具展示了非常重大出产量好处。 (2012年6月)
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2013-05-23 12:26:38
Ultratech 修改用于半导体制造，以更好地满足高亮度 LED 制造行业的成本与性能目标的光刻技术工具。目标是使设备兼容范围广泛的衬底直径和厚度业普遍同时降低资本成本和所有权 (COO) 的整体成本。该项目非常成功和通过的新的工具和基于两个并行制造线内商业晶圆制造设施的运作的传统联系刻的最近比较也已经被证明的产量和吞吐量的好处。这种实践的比较表明使用 Ultratech 光刻技术工具，导致新的工具只有三个月内实现投资回报上很大好处。(2012 2012年 6 月）
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2013-05-23 12:28:18
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