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2013-05-23 12:21
求翻译：cleaned Cu-plated Si substrates were oxidized isother-m al l y i n a n a i r o v en at 4 00 °C t o 50 0° C f o r 30 t o 4 20 m i n是什么意思？ 待解决
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cleaned Cu-plated Si substrates were oxidized isother-m al l y i n a n a i r o v en at 4 00 °C t o 50 0° C f o r 30 t o 4 20 m i n
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
清洗镀Cu Si衬底上的氧化等温米人lyinanairov连接4 00°首席技术官50 0℃保温30日至20分钟的
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2013-05-23 12:23:18
清洁Cu-镀SI基片被氧化isother-M阿L y I n一个N a i R O V EN4 00°C T O50 0°C F O R30T o4 20m i N
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2013-05-23 12:24:58
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2013-05-23 12:26:38
清除铜镀金硅衬底被氧化的 isother-m al l y 我 n n i r o v en 在 4 00 ° C t o 50 0 ° C f o r 30 t o 4 20 米我 n
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2013-05-23 12:28:18
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