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关注：1
2013-05-23 12:21
求翻译：Method for epitaxial deposition of monocrystalline group III - V semiconductor material involves heating exhaust gases to temperature sufficient to reduce condensation and enhance manufacture of semiconductor material是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
Method for epitaxial deposition of monocrystalline group III - V semiconductor material involves heating exhaust gases to temperature sufficient to reduce condensation and enhance manufacture of semiconductor material
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
法单晶组外延沉积III - V族半导体材料包括加热废气温度足以降低冷凝和提高制造半导体材料
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2013-05-23 12:23:18
单晶质的小组的外延证言的方法III - V半导体材料介入加热废气到充足的温度减少结露和提高半导体材料制造
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2013-05-23 12:24:58
方法为单晶质的小组的外延证言III - V半导体材料介入热化废气到温度充足减少结露和提高半导体材料制造
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2013-05-23 12:26:38
方法为外延沉积的单晶组 III-V 半导体材料涉及加热到温度不足以减少冷凝和提高半导体材料制造的废气
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2013-05-23 12:28:18
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