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2013-05-23 12:21
求翻译：Method for treatment i.e. dissolution treatment, of a semiconductor-on-insulator structure in a furnace to partially or completely dissolve oxide or oxynitride layer in defined regions of the structure during manufacture of integrated circuits.是什么意思？ 待解决
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Method for treatment i.e. dissolution treatment, of a semiconductor-on-insulator structure in a furnace to partially or completely dissolve oxide or oxynitride layer in defined regions of the structure during manufacture of integrated circuits.
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
方法进行治疗，即溶解处理的半导体 - 绝缘体结构在炉中的结构定义的区域制造集成电路的过程中，以部分地或完全溶解的氧化物或氧氮化物层的。
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2013-05-23 12:23:18
治疗溶解治疗的即方法，在部分或完全溶化氧化物或氮氧化合物层数的熔炉的一个半导体在绝缘体结构在结构的被定义的地区在集成电路期间制造。
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2013-05-23 12:24:58
方法为治疗即。 溶解治疗，一个半导体在绝缘体结构在一个熔炉对在结构的被定义的地区部份地或完全地溶化氧化物或oxynitride层数在集成电路期间制造。
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2013-05-23 12:26:38
治疗即溶解，半导体上绝缘子结构处理炉部分或完全溶化中定义的区域结构的氧化物或氮氧化层的集成电路制造过程中的方法。
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2013-05-23 12:28:18
治疗方法治疗即解散,一个半导体绝缘结构在一个炉,以部分或完全溶解氧化物或研究员展示了氮氧化铪硅层在确定的区域的制造过程的结构的集成电路。
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