|
关注：1
2013-05-23 12:21
求翻译：Treatment of wafers used in metal oxide semiconductor transistors, involves selective etching of silicon-germanium layer on wafer, oxidative cleaning process, rinsing using de-ionized water, drying, and selective etching process是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
Treatment of wafers used in metal oxide semiconductor transistors, involves selective etching of silicon-germanium layer on wafer, oxidative cleaning process, rinsing using de-ionized water, drying, and selective etching process
问题补充： |
|
2013-05-23 12:21:38
治疗中的金属氧化物半导体晶体管中使用的晶片，包括硅 - 锗层的晶片上，氧化清洗工艺选择性刻蚀，使用去离子水，干燥和选择性的蚀刻工艺漂洗
|
|
2013-05-23 12:23:18
用于金属氧化物半导体晶体管的薄酥饼的治疗，介入硅锗层，氧化清洁过程有选择性的蚀刻在薄酥饼的，漂洗使用被去离子的水、干燥和有选择性的蚀刻过程
|
|
2013-05-23 12:24:58
用于金属氧化物半导体晶体管的薄酥饼的治疗，在薄酥饼介入硅锗层，氧化清洁过程有选择性的蚀刻，漂洗使用被去离子的水、干燥和有选择性的蚀刻过程
|
|
2013-05-23 12:26:38
在金属氧化物半导体晶体管，用片治疗涉及硅锗层外延片、 氧化清洗过程中，冲洗用去离子的水、 干燥、 和选择性蚀刻过程的选择性蚀刻
|
|
2013-05-23 12:28:18
治疗使用的晶片在金属氧化物半导体晶体管,包括选择性蚀刻硅锗层晶圆上,氧化清洁过程、冲洗使用去离子水、干燥和选择性刻蚀过程
|
湖北省互联网违法和不良信息举报平台 | 网上有害信息举报专区 | 电信诈骗举报专区 | 涉历史虚无主义有害信息举报专区 | 涉企侵权举报专区
