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2013-05-23 12:21
求翻译：Manufacturing trench structure in a multilayer wafer by forming a trench through a semiconductor layer and oxide layer and extending into the substrate, annealing the formed trench, and filling the trench with an insulator material是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
Manufacturing trench structure in a multilayer wafer by forming a trench through a semiconductor layer and oxide layer and extending into the substrate, annealing the formed trench, and filling the trench with an insulator material
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
通过形成穿过半导体层和氧化物层中的沟槽和延伸到所述衬底，退火所形成的沟槽，并用绝缘材料填充所述沟槽的多层晶片的制造沟槽结构
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2013-05-23 12:23:18
制造业在一个多层薄酥饼的沟槽结构通过形成一个沟槽通过半导体层数和氧化物层数和延伸到基体，锻炼被形成的沟槽和填装沟槽用绝缘体材料
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2013-05-23 12:24:58
制造业沟槽结构在一个多层薄酥饼通过形成一个沟槽通过半导体层数和氧化物层数和延伸到基体，锻炼被形成的沟槽和填装沟槽用绝缘体材料
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2013-05-23 12:26:38
在由成形通过半导体层和氧化层的战壕和扩展到基板、 退火形成的海沟，和用绝缘子材料填充沟内多层硅片制造戴麟趾结构
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2013-05-23 12:28:18
戴麟趾爵士康乐结构制造的多层晶片,组成一个通过一个戴麟趾爵士康乐半导体层、氧化层和延伸到基体、退火形成的戴麟趾爵士康乐,然后加注坑道内,一个绝缘体材料
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