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2013-05-23 12:21
求翻译：Thick insulating layer's free surface roughness reducing method for silicon-on insulator type donor substrate in e.g. optics field, involves generating plasma by generator such that generator permits to apply layer with high power density是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
Thick insulating layer's free surface roughness reducing method for silicon-on insulator type donor substrate in e.g. optics field, involves generating plasma by generator such that generator permits to apply layer with high power density
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
厚的绝缘层的自由表面粗糙度降低方法硅绝缘体上施主衬底如光学领域，涉及产生等离子体发生器，使得发电机许可证与高功率密度应用层
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2013-05-23 12:23:18
减少绝缘体上硅薄膜类型的在光学的施主基体的即厚实的绝缘层的地面粗糙度方法任意调遣，介入引起等离子由发电器这样发电器允许应用与大功率密度的层数
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2013-05-23 12:24:58
减少方法为硅在绝缘体类型施主基体的厚实的绝缘层的任意地面粗糙度在即。 光学领域，介入引起血浆由发电器这样发电器允许应用层数以威力强大的密度
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2013-05-23 12:26:38
厚厚的隔热层的自由表面粗糙度降低方法为硅上绝缘类型捐助衬底在例如光学领域，包括由发电机这种生成等离子发电机许可证的申请与高功率密度的图层
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2013-05-23 12:28:18
厚绝缘层的表面粗糙度的方法减少的绝缘硅片基材类型捐助者,例如光学”字段中,是生成这种等离子的生成器,生成器许可证应用层与高功率密度
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