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2013-05-23 12:21
求翻译：Silicon on insulator substrate fabricating method for e.g. optoelectronic field, involves finishing thin layer by performing thermal annealing for ten minutes under gaseous atmosphere and at specific temperature是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
Silicon on insulator substrate fabricating method for e.g. optoelectronic field, involves finishing thin layer by performing thermal annealing for ten minutes under gaseous atmosphere and at specific temperature
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
绝缘体上的硅衬底制造方法，用于例如光电领域，涉及到精加工薄层由气态气氛下十分钟进行热退火，并在特定的温度
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2013-05-23 12:23:18
光电子领域的即绝缘体上硅薄膜基体制造的方法，介入完成薄层通过进行热量焖火十分钟在气体大气下和在具体温度
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2013-05-23 12:24:58
硅在绝缘体基体制造的方法为即。 光电子领域，介入完成薄层通过进行热量焖火十分钟在气体大气之下和在具体温度
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2013-05-23 12:26:38
硅绝缘子基板制备方法研究例如光电领域，涉及到通过执行热退火十分钟在特定温度和气体的大气层下整理薄层
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2013-05-23 12:28:18
芯片的绝缘基材制造方法,例如光电”字段中,涉及到印后加工的薄薄的一层散热退火十分钟在气体氛围和在特定的温度
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