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2013-05-23 12:21
求翻译：Method for passivation of semiconductor structure for use in e.g. electronic application, involves etching trenches partially through diffusion barrier layer without exposing portion of strained indium-gallium islands是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
Method for passivation of semiconductor structure for use in e.g. electronic application, involves etching trenches partially through diffusion barrier layer without exposing portion of strained indium-gallium islands
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
方法钝化半导体结构的，例如在使用电子申请，涉及蚀刻沟槽部分通过扩散阻挡层而不紧张铟镓岛屿露出部分
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2013-05-23 12:23:18
半导体结构的钝化的即方法用于电子应用，介入部分地铭刻沟槽通过扩散障碍层，无需暴露紧张的铟镓海岛的部分
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2013-05-23 12:24:58
方法为半导体结构的钝化用于即。 电子应用，通过扩散部份地介入蚀刻沟槽障碍层，无需暴露被劳损的铟镓海岛的部分
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2013-05-23 12:26:38
钝化例如电子应用程序中使用的半导体结构的方法涉及到部分通过扩散阻挡层战壕蚀刻而无需公开的紧张的铟镓群岛部分
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2013-05-23 12:28:18
钝化方法的半导体结构的使用,例如电子应用,涉及到蚀刻沟部分通过传播屏障层而不暴露部分的紧张铟的砷化镓群岛
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