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2013-05-23 12:21
求翻译：Chromium-free etching solution for treatment of silicon substrate and silicon germanium substrate comprises hydrogen fluoride (HF), nitric acid (HNO3), and acetic acid present in as aqueous solution是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
Chromium-free etching solution for treatment of silicon substrate and silicon germanium substrate comprises hydrogen fluoride (HF), nitric acid (HNO3), and acetic acid present in as aqueous solution
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
用于治疗的硅衬底和硅锗衬底的无铬刻蚀溶液包括氟化氢（HF），硝酸（HNO 3）和乙存在于作为水溶液酸
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2013-05-23 12:23:18
硅体和硅锗基体的治疗的铬自由的蚀刻解答包括氟化氢(HF)，硝酸(硝酸)和乙酸当前作为水溶液
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2013-05-23 12:24:58
无铬蚀刻解答为硅体和硅锗基体的治疗包括氟化氢 (HF)、硝酸 (硝酸)和乙酸当前作为水溶液
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2013-05-23 12:26:38
无铬蚀刻液治疗硅衬底和硅锗衬底包括氟化氢 (HF)、 硝酸 (HNO3) 和乙酸作为水溶液中存在
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2013-05-23 12:28:18
镀铬的蚀刻解决方案免费治疗的硅芯片基板和硅锗基材包括氟化氢[HF],硝酸酸[3]“奥诺,和醋酸存在于作为水溶性解决方案
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