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2013-05-23 12:21
求翻译：Manufacturing method of semiconductor substrate for complementary metal oxide semiconductor component e.g. transistor involves removing upper crystalline layer so that amorphous layer forms the upper layer of intermediate substrate是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
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Manufacturing method of semiconductor substrate for complementary metal oxide semiconductor component e.g. transistor involves removing upper crystalline layer so that amorphous layer forms the upper layer of intermediate substrate
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
制造半导体衬底的方法，互补金属氧化物半导体元件如晶体管包括切除上部晶体层，使得非晶层形成中间基板的上层
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2013-05-23 12:23:18
半导体基体即制造方法互补金属氧化物半导体组分晶体管的介入去除上部水晶层数，以便无定形的层数形成上层中间基体
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2013-05-23 12:24:58
半导体基体制造方法为补全金属氧化物半导体组分即。 晶体管介入去除上部水晶层数，以便无定形的层数形成上层中间基体
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2013-05-23 12:26:38
制造的互补金属氧化物半导体组件例如晶体管半导体基板的方法涉及到删除结晶上层，所以那非晶层形成中间衬底的上部层
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2013-05-23 12:28:18
制造方法的半导体基片的互补金属氧化物半导体组件如晶体管需要卸下上部结晶层,使非晶层构成了上层的中间纸张
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