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2013-05-23 12:21
求翻译：the etching solution provides for an etch rate which is low enough so that even thin semiconductor substrates can be etched without sacrificing the desired etching properties, e.g. formation of well developed etch pits or facilitating surface characterization, and allows highly satisfactory homogenous due to its relati是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
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the etching solution provides for an etch rate which is low enough so that even thin semiconductor substrates can be etched without sacrificing the desired etching properties, e.g. formation of well developed etch pits or facilitating surface characterization, and allows highly satisfactory homogenous due to its relati
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
蚀刻溶液为蚀刻速率足够低，使得即使薄的半导体衬底可以在不牺牲所需的蚀刻特性进行蚀刻，如形成发育良好的腐蚀坑或便利的表面特性，并允许由于其相对较高的乙酸含量从而能够以显示表面缺陷的薄的半导体基板，如高度满意的均匀绝缘体上硅或绝缘体上应变硅。
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2013-05-23 12:23:18
蚀刻解答提供是足够低的铭刻率，以便甚而稀薄的半导体基体可以被铭刻，无需牺牲期望铭刻的物产，即高度发达的腐蚀坑或促进表面描述特性形成，并且允许非常满意同源由于它的因而使成为可能的相对高乙酸内容显露在稀薄的半导体基体，即绝缘体上硅薄膜或紧张的绝缘体上硅薄膜的表面损坏。
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2013-05-23 12:24:58
蚀刻解答提供是足够低的铭刻率，以便甚而稀薄的半导体基体可以被铭刻，无需牺牲期望铭刻的物产，即。 高度发达的腐蚀坑或促进表面描述特性的形成，和在稀薄的半导体基体允许高度令人满意同源由于它的因而使成为可能的相对高乙酸内容显露表面损坏，即。 硅在绝缘体或被劳损的硅在绝缘体。
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2013-05-23 12:26:38
蚀刻液提供足够低，以便即使薄半导体基板可以刻而不牺牲所需刻蚀属性，例如形成的发达刻蚀坑或促进表面表征，并允许非常令人满意的刻蚀速率均匀由于其相对高乙酸含量，从而使可能揭示薄半导体基板的表面缺陷例如硅绝缘子或绝缘体上的硅上。
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2013-05-23 12:28:18
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