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2013-05-23 12:21
求翻译：Method of improving semiconductor substrate surface that partially includes silicon involves selectively depositing silicon by epitaxial deposition in one hole in surface of semiconductor substrate to improve surface quality是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
Method of improving semiconductor substrate surface that partially includes silicon involves selectively depositing silicon by epitaxial deposition in one hole in surface of semiconductor substrate to improve surface quality
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
改善半导体衬底表面的方法，该方法部分地包括硅涉及选择性地外延沉积在半导体衬底的表面上的一个孔上沉积硅以改善表面质量
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2013-05-23 12:23:18
改进半导体部分地包括硅的基体表面方法在半导体基体表面的一个孔介入选择性地放置硅由外延证言改进表面质量
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2013-05-23 12:24:58
改进半导体部份地包括硅的基体表面方法在一个孔在半导体基体表面介入有选择性地放置硅由外延证言改进表面质量
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2013-05-23 12:26:38
提高部分包括硅的半导体基片表面的方法涉及到有选择性地沉积硅外延沉积在表面中的一个洞中的半导体基片表面以提高表面质量
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2013-05-23 12:28:18
方法的改进半导体基片表面上,该部分包括芯片包括有选择性地存入芯片,外延沉积在一个孔中的半导体基片表面,提高表面质量
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