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2013-05-23 12:21
求翻译：Used for the production of multi-layer structures of semiconductor materials, in which the structure comprises a substrate and a first semiconductor material and a superficial thin film of a second semiconductor material, the two semiconductor materials presenting essentially different mesh parameters.是什么意思？ 待解决
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Used for the production of multi-layer structures of semiconductor materials, in which the structure comprises a substrate and a first semiconductor material and a superficial thin film of a second semiconductor material, the two semiconductor materials presenting essentially different mesh parameters.
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
用于制造半导体材料的多层结构，其中，所述结构包括衬底和第一半导体材料和第二半导体材料的表面上的薄膜，这两个半导体材料呈现实质上不同的网格参数。
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2013-05-23 12:23:18
使用为半导体材料多层结构的生产，结构包括一个基体和第一半导体材料和第二半导体材料的表面薄膜，本质上提出不同的滤网参量的两半导体材料。
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2013-05-23 12:24:58
为半导体材料多层结构的生产使用，结构包括一个基体和第一半导体材料和一表面薄膜第二半导体材料，根本上提出不同的滤网参量的二半导体材料。
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2013-05-23 12:26:38
用于多层结构的半导体材料，在其中的结构包括衬底和第一的半导体材料和第二的半导体材料表面薄膜生产呈现本质上不同的两种半导体材料网格参数。
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2013-05-23 12:28:18
用于生产的多层结构的半导体材料,其结构包括一个基板和第一个半导体材料和表面薄膜的半导体材料的第二次,两个半导体材料,说明本质上的不同网格参数。
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