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2013-05-23 12:21
求翻译：The method is applied to the treatment of slices of materials destined to be utilized in micro-electronic, optical and opto-electronic applications, such as slices of the SOI type and other semiconductors. It is notably applicable for the technique of Rapid temperature Annealing.是什么意思？ 待解决
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The method is applied to the treatment of slices of materials destined to be utilized in micro-electronic, optical and opto-electronic applications, such as slices of the SOI type and other semiconductors. It is notably applicable for the technique of Rapid temperature Annealing.
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
该方法被应用于注定在微电子，光学和光电应用，如绝缘体上硅型等的半导体片也可以利用材料的切片的治疗。它是特别适用于快速退火温度的技术。
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2013-05-23 12:23:18
方法在微电子学，光学和光电子应用被运用于切片的治疗材料被注定被运用，例如切片SOI类型和其他半导体。它为迅速温度焖火技术是显著地可适用的。
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2013-05-23 12:24:58
方法在微电子学，光学和光电子应用被运用于材料切片的治疗被注定的被运用，例如SOI类型和其他半导体的切片。 它为迅速温度焖火技术是著名地可适用的。
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2013-05-23 12:26:38
该方法应用于治疗注定要利用微型电子、 光学和光电应用程序如切片的 SOI 类型和其他半导体材料的切片。这是值得注意的是适用于技术的快速温度退火。
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2013-05-23 12:28:18
这种方法适用于处理的材料的片注定要利用微电子、光学和光电电子应用,如层的SOI类型和其他半导体产品。 它主要是适用于该技术的快速温度退火。
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