求翻译：The method enables effectively determining the defects with size lower than 20 nm in the silicon substrate from drawing of silicon in an ingot.是什么意思？

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The method enables effectively determining the defects with size lower than 20 nm in the silicon substrate from drawing of silicon in an ingot.

问题补充：

匿名	2013-05-23 12:21:38 该方法能够有效地确定缺损的大小比在从硅的图中的铸锭硅衬底20纳米以下。

匿名	2013-05-23 12:23:18 方法使能有效确定与低大小的瑕疵比20毫微米在从硅图画的硅体在锭的。

匿名	2013-05-23 12:24:58 方法在锭使能有效确定瑕疵以低大小比20毫微米在硅体从硅图画。

匿名	2013-05-23 12:26:38 该方法可以有效地确定的缺陷与大小低于 20 毫微米的硅衬底中从硅锭中的绘图。

匿名	2013-05-23 12:28:18 该方法可有效地确定缺陷尺寸低于20Nm的硅基材中的绘图芯片在一个锭。

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