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2013-05-23 12:21
求翻译：The method ensures that the evaluation process does not require the presence of micro components on an exposed surface of an initial substrate the presence of micro components buried in the initial substrate so as to optically observe the torque through relatively small thickness of the initial substrate, so that the e是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
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The method ensures that the evaluation process does not require the presence of micro components on an exposed surface of an initial substrate the presence of micro components buried in the initial substrate so as to optically observe the torque through relatively small thickness of the initial substrate, so that the e
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
该方法确保了评价过程中不需要微元件上的初始衬底埋在初始衬底，以便通过光学厚度相对较小的初始衬底的观察扭矩的微组分的存在的暴露表面的存在，使该不均匀的变形的程度的评价可以容易且有效地进行制造三维结构之前。
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2013-05-23 12:23:18
方法保证评价程序不要求微组分出现微组分出现在最初的基体埋没以便通过相对地最初的基体的小厚度光学上观察扭矩一个最初的基体的被暴露的表面上的，因此不均匀变形的水平的评估可以在制造一个三维结构前容易地和有效地执行。
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2013-05-23 12:24:58
方法保证评估过程在微组分出现在最初的基体埋没以便光学上通过相对地最初的基体的小厚度观察扭矩一个最初的基体的被暴露的表面不要求微组分出现，因此不均匀变形的水平的评估可以在制造一个三维结构之前容易地和有效地执行。
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2013-05-23 12:26:38
该方法确保评价过程不需要初始衬底存在埋在初始基体，以光学观察的扭矩较小厚度的初始的基板，通过这样的不均匀变形水平的评价可以轻松有效地执行在制造一种三维结构之前的微型组件暴露面上的微型组件的存在。
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2013-05-23 12:28:18
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