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2013-05-23 12:21
求翻译：Constraint distribution controlling method for use during fabrication of e.g. silicon on insulator in microelectronic field, involves covering insulating layer using deoxidation resistant material for compensating constraints是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
Constraint distribution controlling method for use during fabrication of e.g. silicon on insulator in microelectronic field, involves covering insulating layer using deoxidation resistant material for compensating constraints
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
如制作过程中约束分布控制方法的使用绝缘体上硅在微电子领域，涉及到使用抗脱氧材料，用于补偿约束覆盖绝缘层
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2013-05-23 12:23:18
使用补偿的限制的，脱氧抗性材料即限制分布控制方法为使用在微电子学领域的绝缘体上硅薄膜的制造时，介入包括绝缘层
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2013-05-23 12:24:58
限制分布控制方法为使用在制造即期间。 硅在绝缘体在微电子学领域，介入报道绝缘层使用脱氧抗性材料为补偿的限制
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2013-05-23 12:26:38
约束分布控制在例如绝缘体上硅在微电子领域中的制造过程中使用的方法涉及到覆盖隔热层使用脱氧补偿约束的抗腐蚀材料
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2013-05-23 12:28:18
约束分配控制方法在使用如芯片制造的绝缘在微电子领域,涉及包括绝缘层材料耐使用deoxidation补偿限制
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