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2013-05-23 12:21
求翻译：Manufacturing method of base substrate for semiconductor on insulator type substrate involves implementing cleaning of substrate surface and formation of dielectric material layer and silicon layer successively in same enclosure是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
Manufacturing method of base substrate for semiconductor on insulator type substrate involves implementing cleaning of substrate surface and formation of dielectric material layer and silicon layer successively in same enclosure
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
制造基体基板的方法，绝缘体上半导体型衬底包括在同一外壳内依次执行清洁的衬底表面，并形成电介质材料层和硅层的
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2013-05-23 12:23:18
基本的基体制造方法半导体的在绝缘体类型基体在同样封入物介入继续地实施基体表面电介质材料层和硅层的清洁和形成
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2013-05-23 12:24:58
基本的基体制造方法为半导体在绝缘体类型基体在同样封入物介入实施基体表面电介质材料层和硅层的清洁和形成连续地
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2013-05-23 12:26:38
制造半导体绝缘子类型基板上的基底方法涉及到实施清洗基板表面和形成的介电材料层和硅层先后在同一机箱中
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2013-05-23 12:28:18
制造方法的基基材的半导体的绝缘基材类型包括实施清洁的基材表面,形成介电材料层和硅层连续在同一盘柜
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