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2013-05-23 12:21
求翻译：Method for dissolving buried oxide layer of semiconductor-on-insulator wafer involves using semiconductor-on-insulator wafer comprising thin working layer obtained from semiconductor material(s), support layer and buried oxide layer是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
Method for dissolving buried oxide layer of semiconductor-on-insulator wafer involves using semiconductor-on-insulator wafer comprising thin working layer obtained from semiconductor material(s), support layer and buried oxide layer
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
方法对半导体绝缘体上硅片溶解掩埋氧化物层包括使用半导体 - 绝缘体晶片，其包括掩埋氧化物层由半导体材料（次）得到的薄的工作层，支持层和
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2013-05-23 12:23:18
溶化的半导体在绝缘体薄酥饼被埋没的氧化物层数方法介入使用包括稀薄的运作的层数获得从半导体材料，支持层数和被埋没的氧化物层数的半导体在绝缘体薄酥饼
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2013-05-23 12:24:58
方法为溶化半导体在绝缘体薄酥饼被埋没的氧化物层数使用包括稀薄的运作的层数获得从半导体材料s，支持(层数)和被埋没的氧化物层数的半导体在绝缘体薄酥饼介入
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2013-05-23 12:26:38
溶样埋的氧化层绝缘体半导体外延片的方法涉及到使用半导体上绝缘子硅片组成薄工作层半导体材料、 支持层及埋的氧化层所得
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2013-05-23 12:28:18
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