|
关注：1
2013-05-23 12:21
求翻译：The appropriate lattice parameter is provided to reduce the lattice mismatch with epitaxial film. The degree of strain introduced into III-nitride material is preserved while maintaining a reasonably low defect density.是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
The appropriate lattice parameter is provided to reduce the lattice mismatch with epitaxial film. The degree of strain introduced into III-nitride material is preserved while maintaining a reasonably low defect density.
问题补充： |
|
2013-05-23 12:21:38
适当的晶格参数被提供，以减少晶格失配外延膜。应变导入III族氮化物材料的程度，同时保持合理的低缺陷密度保持不变。
|
|
2013-05-23 12:23:18
适当的格子参量提供减少与外延影片的格子配错。程度张力被介绍入III氮化物材料被保存，当维护合理地低瑕疵密度时。
|
|
2013-05-23 12:24:58
提供适当的格子参量减少格子配错与外延影片。 程度张力被介绍入III氮化物材料被保存，当维护合理地低瑕疵密度时。
|
|
2013-05-23 12:26:38
提供适当的晶格参数，以减少与外延膜的晶格不匹配。引入第三-氮化物材料的应变的程度得到保护，同时保持合理的低缺陷密度。
|
|
2013-05-23 12:28:18
适当的参数都提供了窗棂,窗棂之间不匹配的减少与外延膜。 在何种程度上引入的应力三-氮化硅材料是保留,同时保持一个合理的低缺陷密度。
|
湖北省互联网违法和不良信息举报平台 | 网上有害信息举报专区 | 电信诈骗举报专区 | 涉历史虚无主义有害信息举报专区 | 涉企侵权举报专区
