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  • 匿名
关注：1 2013-05-23 12:21

求翻译：Allows the fabrication of a layer of semiconductor material on a support with a negligible residual electric compensation due to the ionic implantation.是什么意思？

待解决 悬赏分：1 - 离问题结束还有
Allows the fabrication of a layer of semiconductor material on a support with a negligible residual electric compensation due to the ionic implantation.
问题补充：
  • 匿名
2013-05-23 12:21:38
允许一个半导体材料层上与由于离子注入可以忽略不计的残留电补偿支承的制造。
  • 匿名
2013-05-23 12:23:18
允许半导体材料层数的制造在支持的与微不足道的残余的电报偿由于离子安放。
  • 匿名
2013-05-23 12:24:58
在支持允许半导体材料层数的制造与微不足道的残余的电报偿由于离子安放。
  • 匿名
2013-05-23 12:26:38
正在翻译，请等待...
  • 匿名
2013-05-23 12:28:18
允许制造的一个图层上的半导体材料的支持,可以忽略不计的剩余电力补偿由于离子植入法。
 
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