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2013-05-23 12:21
求翻译：The insulating layer, which does not increase the size of the particles, is formed before transferring the part of the donor substrate, thus avoiding the generation of traversing defects after transferring the substrate. The process allows the formation of a silicon-on-insulator semiconductor substrate in an inexpensiv是什么意思？ 待解决
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The insulating layer, which does not increase the size of the particles, is formed before transferring the part of the donor substrate, thus avoiding the generation of traversing defects after transferring the substrate. The process allows the formation of a silicon-on-insulator semiconductor substrate in an inexpensiv
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
绝缘层，其不增加颗粒的尺寸，将所述施主衬底的一部分，从而避免转印基板之后遍历缺陷的产生之前被形成。该过程允许以廉价的硅绝缘体上半导体衬底的形成。
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2013-05-23 12:23:18
绝缘层，不增加微粒的大小，在转移施主基体的部分前被形成，因而避免横断的一代在转移基体以后背叛。过程允许一个绝缘体上硅薄膜半导体基体的形成以低廉方式。
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2013-05-23 12:24:58
绝缘层，不增加微粒的大小，在转移施主基体的部分之前被形成，因而避免横断的世代在转移基体以后背叛。 过程允许一个硅在绝缘体半导体基体的形成以低廉方式。
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2013-05-23 12:26:38
隔热层，不会不增加颗粒的大小，是在转移的捐助基体，从而避免代的遍历后转移基体缺损部分之前形成的。该进程允许绝缘体上硅半导体基片表面的形成以廉价的方式。
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2013-05-23 12:28:18
隔热层,它不增加尺寸的颗粒组成,是一部分的转接前的捐助国的基材,因此避免了一代的遍历后,将有缺陷的基板。 这一过程允许成立一个硅绝缘体半导体基板的一个廉宜的方式。
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