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2013-05-23 12:21
求翻译：Donor substrate'silicon layer i.e. thin film, transferring method for e.g. electronic application, involves processing annealing during duration lower than ten percentages of duration required to cause layering是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
Donor substrate'silicon layer i.e. thin film, transferring method for e.g. electronic application, involves processing annealing during duration lower than ten percentages of duration required to cause layering
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
施主substrate'silicon层，即薄膜，转换方法，例如：电子申请，涉及加工退火持续时间内持续低于10百分比造成分层要求
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2013-05-23 12:23:18
即即施主substrate'silicon层数薄膜，电子应用的转移的方法，在期间时介入中间退火更低比期间的十百分比要求导致分层堆积
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2013-05-23 12:24:58
施主substrate'silicon层数即。 薄膜，转移的方法为即。 电子应用，介入中间退火在期间期间更低比要求的期间的十百分比导致分层堆积
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2013-05-23 12:26:38
捐助者 substrate'silicon 层即薄膜转移方法，例如电子中的应用，涉及在期间期间低于十个百分比的持续时间会导致分层所需退火处理
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2013-05-23 12:28:18
捐助国基材”硅层即薄膜、传输方法,例如电子应用程序,包括处理退火在持续时间百分比低于0的所需时间,使图层
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