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2013-05-23 12:21
求翻译：The method can facilitate removal or lifting-off by selective etching of a layer of SiGe subsisting above a layer of strained silicon, and is thus reliable while preserving the layer of strained silicon from excessive over-etching.是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
The method can facilitate removal or lifting-off by selective etching of a layer of SiGe subsisting above a layer of strained silicon, and is thus reliable while preserving the layer of strained silicon from excessive over-etching.
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
该方法可便于去除或升降销由一层以上的层的应变硅的硅锗存续的选择性腐蚀，因而是可靠的，而从保持应变硅层过度的过腐蚀。
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2013-05-23 12:23:18
方法可能促进撤除或发射由维持生活在紧张的硅上层数的西赫层数的有选择性的蚀刻，并且因而是可靠的，当保存紧张的硅层数从过份过蚀刻时的。
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2013-05-23 12:24:58
方法可能促进撤除或举由维持生活在被劳损的硅之上层数的SiGe层数的有选择性的蚀刻，并且因而是可靠的，当保存被劳损的硅层数从过份在蚀刻时。
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2013-05-23 12:26:38
该方法可以方便搬迁或起重-关闭由一层硅锗的选择性蚀刻存续的上面一层的劳损的硅，从而可靠而保留从过度过度蚀刻应变硅层。
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2013-05-23 12:28:18
该方法可以方便拆下或抬起的选择性蚀刻的一个图层存续的SiGe层上面的张力硅,因此可靠同时保留图层中的硅的紧张过度蚀刻。
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