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2013-05-23 12:21
求翻译：Method for manufacturing semiconductor substrate used for manufacturing transistor, involves utilizing substrate layer to present thermal dilation coefficient near to that of semiconductor and additional semiconductor layers是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
Method for manufacturing semiconductor substrate used for manufacturing transistor, involves utilizing substrate layer to present thermal dilation coefficient near to that of semiconductor and additional semiconductor layers
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
方法为用于制造晶体管的制造半导体衬底，涉及利用基材层呈现靠近该半导体和额外的半导体层的热膨胀系数
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2013-05-23 12:23:18
制造的为制造晶体管使用的半导体基体方法，介入运用基体层数提出热量扩张系数近到那半导体和另外的半导体层
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2013-05-23 12:24:58
方法为制造用于制造业晶体管的半导体基体，介入运用基体层数提出热量扩张系数近对那半导体和另外的半导体层
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2013-05-23 12:26:38
用于制造晶体管，半导体基板制造方法涉及到利用本热胀系数接近于半导体基板层和其他半导体层
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2013-05-23 12:28:18
方法用于制造半导体基材用于制造晶体管,包括利用基材层,目前附近散热扩张系数的半导体和其他半导体层
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