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2013-05-23 12:21
求翻译：Hydride vapor phase epitaxy (HVPE) deposition system for depositing Ill-V semiconductor material such as gallium nitride (GaN) on substrate to manufacture semiconductor device. Can also be used in gallium phosphide, gallium arsenide, indium nitride, indium phosphide, indium arsenide, aluminum nitride, aluminum phosphid是什么意思？ 待解决
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Hydride vapor phase epitaxy (HVPE) deposition system for depositing Ill-V semiconductor material such as gallium nitride (GaN) on substrate to manufacture semiconductor device. Can also be used in gallium phosphide, gallium arsenide, indium nitride, indium phosphide, indium arsenide, aluminum nitride, aluminum phosphid
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
氢化物气相外延（HVPE）沉积系统，用于在衬底来制造半导体器件上沉积III-V族半导体材料，如氮化镓（GaN）。也可以在磷化镓，砷化镓，氮化铟，磷化铟，砷化铟，氮化铝，磷化铝，砷化铝，氮化铟镓，磷化铟镓和氮化铟镓磷化物使用。
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2013-05-23 12:23:18
氢化物蒸气阶段外延(HVPE)放置的恶意的V半导体材料的证言系统例如镓氮化物(淦)在制造半导体装置的基体。能也用于镓磷化物、砷化镓、铟氮化物、磷化铟、铟砷化物，氮化铝、铝磷化物、铝砷化物、铟镓氮化物、铟镓磷化物和铟镓氮化物磷化物。
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2013-05-23 12:24:58
氢化物蒸气阶段外延 (HVPE) 证言系统为放置不适的V半导体材料例如镓氮化物 (GaN) 在基体制造半导体装置。 罐头也用于镓磷化物、砷化镓、铟氮化物、磷化铟、铟砷化物、铝氮化物、铝磷化物、铝砷化物、铟镓氮化物、铟镓磷化物和铟镓氮化物磷化物。
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2013-05-23 12:26:38
氢化物汽相外延 (HVPE) 沉积系统为基板制造半导体器件上沉积病-V 半导体材料氮化镓 (GaN) 等。也可以使用在磷化镓、 镓砷化物、 氮化铟、 磷化铟、 砷化铟、 氮化铝、 磷化铝、 铝砷化物、 氮化铟镓、 铟镓磷化物和磷化铟镓氮化物。
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2013-05-23 12:28:18
氢化物气相固溶体[hvpe]沉积系统为存放不当-V半导体材料,如砷化镓氮化物[乾]纸张生产半导体设备。 也可用于磷化镓、砷化镓、铟氮化钛、磷化铟、铟砷、铝氮化钛、磷化铝、铝砷、铟砷化镓氮化物、铟磷化镓和磷化铟砷化镓氮化物。
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