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2013-05-23 12:21
求翻译：Method for etching a silicon material vapor phase to decompose a defined part of the material for dosage of impurities of the material during fabrication of an optical, electronic or opto-electronic component (all claimed).是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
Method for etching a silicon material vapor phase to decompose a defined part of the material for dosage of impurities of the material during fabrication of an optical, electronic or opto-electronic component (all claimed).
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
方法用于蚀刻硅材料蒸气相的光学，电子或光电元件（全部权利）的制造过程中，分解一个所定义的材料的一部分的材料的杂质剂量。
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2013-05-23 12:23:18
铭刻的硅物质蒸气阶段方法在一个光学，电子或者光电子组分的制造时分解材料的一个被定义的部分材料的杂质剂量的(所有被要求)。
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2013-05-23 12:24:58
方法为铭刻硅物质蒸气阶段分解材料的一个被定义的部分为材料的杂质剂量在所有被要求的光学，电子或者光电子组分的 (制造期间)。
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2013-05-23 12:26:38
方法蚀刻硅材料气相分解在光学、 电子或光电组件 (所有声称) 的制造过程中的定义的部分的材料的用量的材料的杂质。
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2013-05-23 12:28:18
蚀刻的方法一个硅材料汽相,分解一个已定义的零件的材料的杂质的剂量的材料在制造的一种光学、电子或光学电子组件[所有索赔]。
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