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2013-05-23 12:21
求翻译：Improves flexibility with selection of shapes of MEMS structure since shape of cavity in insulating layer during subsequent etching of material with high etching rate can be determined in advance. Enables relaxing etching conditions of insulating layer or area to be etched.是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
Improves flexibility with selection of shapes of MEMS structure since shape of cavity in insulating layer during subsequent etching of material with high etching rate can be determined in advance. Enables relaxing etching conditions of insulating layer or area to be etched.
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
改善了与选择自腔中在随后的材料的蚀刻具有高蚀刻速率的绝缘层形状的MEMS结构的形状的灵活性，可以预先确定的。使绝缘层或区域被蚀刻的休闲蚀刻条件。
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2013-05-23 12:23:18
因为可以事先，确定洞形状在绝缘层的在材料期间随后蚀刻与高蚀刻率的改进与MEMS结构形状的选择的灵活性。使能将被铭刻的绝缘层或区域的松弛蚀刻情况。
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2013-05-23 12:24:58
因为洞形状在绝缘层在材料期间随后蚀刻以高蚀刻率可以事先，被确定改进灵活性以MEMS结构形状的选择。 使能将被铭刻的绝缘层或区域的relaxing蚀刻情况。
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2013-05-23 12:26:38
因为在期间随后蚀刻的材料与高蚀刻率隔热层型腔的形状可以提前确定，提高了所选的形状的 MEMS 结构的灵活性。启用放宽的隔热层或领域为光刻刻蚀条件。
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2013-05-23 12:28:18
提高了灵活性和选择形状的MEMS结构,因为形状的模腔在绝缘层蚀刻在随后的材料,具有高蚀刻速率可以是事先确定的。 蚀刻可以放宽条件的绝缘层或区域,是蚀刻。
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