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2013-05-23 12:21
求翻译：Semiconductor device fabricating method, involves simultaneously forming electronic devices in or on exposed massive semiconductor region of substrate and superficial semiconductor layer that is positioned on continuous insulating layer是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
Semiconductor device fabricating method, involves simultaneously forming electronic devices in or on exposed massive semiconductor region of substrate and superficial semiconductor layer that is positioned on continuous insulating layer
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
半导体器件的制造方法中，涉及同时形成或在衬底和表面半导体层的暴露的块状半导体区域被定位在连续的绝缘层的电子设备
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2013-05-23 12:23:18
半导体装置制造的方法，介入同时形成电子设备在或在连续的绝缘层被安置基体和表面半导体层的被暴露的巨型的半导体区域
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2013-05-23 12:24:58
半导体装置制造的方法，介入同时形成电子设备在或在连续的绝缘层被安置基体和表面半导体层的被暴露的巨型的半导体区域
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2013-05-23 12:26:38
半导体器件制备方法，涉及同时形成或暴露的大规模半导体和区域的基材定位在连续的隔热层的肤浅半导体层上的电子设备
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2013-05-23 12:28:18
半导体器件制造方法,同时涉及电子设备形成或暴露在外的地区大规模半导体基片和半导体层,表面上是定位在连续绝缘层
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