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2013-05-23 12:21
求翻译：Silicon on insulator substrate for fabricating micro-electronic devices, has supplementary layer placed on one of two regions in front surface of support, where layer has sufficient thickness for burying crystalline defects of support是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
Silicon on insulator substrate for fabricating micro-electronic devices, has supplementary layer placed on one of two regions in front surface of support, where layer has sufficient thickness for burying crystalline defects of support
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
硅上制造微型电子器件的绝缘基片，已经补充层放置在支撑，其中层具有足够的厚度为埋葬的支持晶体缺陷前表面的两个地区之一
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2013-05-23 12:23:18
制造的微电子学设备绝缘体上硅薄膜基体，有在两个地区之一安置的补充层数在支持前面表面，层数有埋没的支持水晶瑕疵充足的厚度
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2013-05-23 12:24:58
硅在绝缘体基体为制造微电子学设备，有在二个地区之一安置的补充层数在支持前面表面，层数有充足的厚度为埋没支持水晶瑕疵
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2013-05-23 12:26:38
制作微型电子设备绝缘衬底上的硅已补充图层放在两个区域之一的支持下，在前面表面层都有足够厚度为埋葬晶体的缺陷的支持
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2013-05-23 12:28:18
芯片的绝缘基材制造微型电子设备,补充层放在的两个区域之一的前表面支持,在这层有足够的厚度埋结晶缺陷的支持
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