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2013-05-23 12:21
求翻译：Semiconductor material structure formation for, e.g., opto-electronics, involves thermally oxidizing oxidizable layer such that combination of oxidizable layer and insulating layer forms insulating layer of structure with desired thickness是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
Semiconductor material structure formation for, e.g., opto-electronics, involves thermally oxidizing oxidizable layer such that combination of oxidizable layer and insulating layer forms insulating layer of structure with desired thickness
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
半导体材料的结构形成为，例如，光电子，涉及热氧化可氧化层，使得氧化层和绝缘层形成绝缘结构层具有所需厚度的组合
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2013-05-23 12:23:18
半导体物质结构形成为，即，光电子学，介入热量地氧化可氧化的层数这样可氧化的层和绝缘层的组合形成绝缘的结构层次与期望厚度的
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2013-05-23 12:24:58
半导体物质结构形成为，即，光电子学，介入热量地氧化可氧化的层数这样可氧化的层和绝缘层的组合形成绝缘的结构层次以期望厚度
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2013-05-23 12:26:38
半导体材料结构形成的例如，光电子领域中，涉及热氧化气化层这样可氧化态层和隔热层的组合形式与所需厚度的隔热层的结构
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2013-05-23 12:28:18
半导体材料结构形成,例如,光电产品、涉及到散热氧化层(例如诳裳趸镏组合的诳裳趸镏层和绝缘层形成绝缘层的结构与所需厚度
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