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2013-05-23 12:21
求翻译：Structure e.g. semiconductor on insulator structure, preparing method for e.g. CMOS component manufacture, involves forming layer, on thin semiconductor material film, to maintain stress that limits stress relaxation of material in islands是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
Structure e.g. semiconductor on insulator structure, preparing method for e.g. CMOS component manufacture, involves forming layer, on thin semiconductor material film, to maintain stress that limits stress relaxation of material in islands
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
结构如绝缘体上半导体结构，例如，制备方法CMOS元件制造，包括形成层，薄半导体材料薄膜，以保持压力的极限应力材料的松弛的岛屿
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2013-05-23 12:23:18
在海岛即即构造在绝缘体结构的半导体，方法为CMOS组分制造做准备，介入形成层数，在稀薄的半导体物质影片，维护重音极限材料的应力弛豫
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2013-05-23 12:24:58
结构即。 半导体在绝缘体结构，方法为即做准备。 CMOS组分制造，在海岛介入形成层数，在稀薄的半导体物质影片，维护重音极限材料的应力弛豫
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2013-05-23 12:26:38
例如结构对绝缘子结构半导体组件制造，例如 CMOS 制备方法涉及到上薄半导体材料膜，保持极限应力材料在群岛的松弛应力形成层，
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2013-05-23 12:28:18
例如半导体结构的绝缘结构、编制方法,例如CMOS组件在制造过程,其中涉及到图层组成,在瘦半导体材料薄膜,以保持压力,强调放松限制的材料在群岛
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