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2013-05-23 12:21
求翻译：Initial silicon on insulator substrate thinning method for fabricating e.g. memory, in optical field, involves realizing second engraving cycle to detach polluting particles formed during first engraving cycle, for obtaining final substrate是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
Initial silicon on insulator substrate thinning method for fabricating e.g. memory, in optical field, involves realizing second engraving cycle to detach polluting particles formed during first engraving cycle, for obtaining final substrate
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
在绝缘基片减薄的制造方法，例如，初始硅记忆，在光学领域，涉及到实现第二雕刻循环分离过程中的污染首先雕刻循环形成的粒子，以获得最终的底物
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2013-05-23 12:23:18
即最初的制造的记忆绝缘体上硅薄膜基体变薄的方法，在光学领域，介入体会第二个板刻周期分开在第一个板刻周期期间被形成的污染微粒，得到的最后的基体
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2013-05-23 12:24:58
最初的硅在绝缘体基体变薄的方法为制造即。 记忆，在光学领域，介入体会第二个板刻周期分开在第一个板刻周期期间被形成的污染微粒，为得到最后的基体
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2013-05-23 12:26:38
初始硅绝缘子基体细化方法制作例如内存在光学领域，涉及到实现第二个雕刻周期要分离期间第一个雕刻周期，获得最后的基体形成的污染颗粒
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2013-05-23 12:28:18
初始硅芯片的绝缘基材细化其制造方法例如内存、光驱”字段中,涉及到第二个雕刻周期实现分离形成的微粒污染第一个雕刻周期期间,获得最后纸张
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