|
关注：1
2013-05-23 12:21
求翻译：During the silica rod etching process, several interesting hybrid morphologies can be formed due to the differential etch rates between the initial (seed) cores and subsequently grown outer layers of the synthesized silica rods. Figures 4 d and S2 show SEM images of horizontally and vertically oriented Si rod templated是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
During the silica rod etching process, several interesting hybrid morphologies can be formed due to the differential etch rates between the initial (seed) cores and subsequently grown outer layers of the synthesized silica rods. Figures 4 d and S2 show SEM images of horizontally and vertically oriented Si rod templated
问题补充： |
|
2013-05-23 12:21:38
在硅棒的蚀刻过程中，几个有趣的混合形态可以由于初始（种子）内核和合成二氧化硅棒的后续生长的外层之间的差的蚀刻速率来形成。
|
|
2013-05-23 12:23:18
在硅土标尺蚀刻过程中，几有趣的杂种形态学可以被形成的归结于在被综合的硅土标尺的最初的(种子)核心和后来增长的外面层数的之间有差别的铭刻率。当HF对氨基苯甲酸二解答时，不完全地去除硅土标尺图4 d和S2显示SEM图象的水平地和垂直针对的Si标尺templated结构。在蚀刻过程中，标尺核心和壳没有被去除以同样率。
|
|
2013-05-23 12:24:58
在硅土标尺蚀刻过程期间，几有趣的杂种形态学可以被形成的归结于有差别的铭刻率在被综合的 (硅土) 标尺的最初的种子核心和随后增长的外面层数之间。 图4 d和S2显示SEM图象的水平地和垂直针对的Si标尺templated结构，当残缺不全地HF对氨基苯甲酸二解答时去除硅土标尺。 在蚀刻过程期间，标尺核心和壳没有被去除以同样率。 图4 e显示另一个典型的SEM图象templated硅土标尺残缺不全地在HF水解答被去除的结构。 与HF对氨基苯甲酸二对比，当铭刻在HF水时，硅土标尺的核心在他们的壳之前在之内被去除，留下空心硅土圆筒在每一个毛孔附近templated HfO 2建筑学。
|
|
2013-05-23 12:26:38
在硅棒刻蚀过程，期间几个有趣的混合形态可以形成原因是初始 （种子） 芯和后来长大外面层数的合成的硅棒之间差别蚀刻率。数字 4 d 和 S2 时，显示扫描电镜图像的水平和垂直方向面向 Si 杆模板化结构的硅棒完全删除由 HF-乙醇溶液。在刻蚀过程中，杆芯和壳不会删除相同的税率。图 4 e 显示模板化结构的硅棒完全删除 HF-水解决方案中的另一个典型扫描电镜图像。与 HF-乙醇，当蚀刻 HF-在水中，硅棒的核心之前，移除它们的壳，在模板化 HfO 2 体系结构内离开空心二氧化硅圆筒周围每个毛孔。
|
|
2013-05-23 12:28:18
正在翻译，请等待...
|
湖北省互联网违法和不良信息举报平台 | 网上有害信息举报专区 | 电信诈骗举报专区 | 涉历史虚无主义有害信息举报专区 | 涉企侵权举报专区
