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  • 匿名
关注:1 2013-05-23 12:21

求翻译:Compatible with generic 0.5um CMOS SPDM process, plus 8 extra masking steps, N+Buried layer(NBL), HVNW, HVPW, LV Vt, HVN Vt, HVP Vt & dual-gate oxide,dual gate oxide remove.是什么意思?

待解决 悬赏分:1 - 离问题结束还有
Compatible with generic 0.5um CMOS SPDM process, plus 8 extra masking steps, N+Buried layer(NBL), HVNW, HVPW, LV Vt, HVN Vt, HVP Vt & dual-gate oxide,dual gate oxide remove.
问题补充:

  • 匿名
2013-05-23 12:21:38
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  • 匿名
2013-05-23 12:23:18
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  • 匿名
2013-05-23 12:24:58
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  • 匿名
2013-05-23 12:26:38
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  • 匿名
2013-05-23 12:28:18
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