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2013-05-23 12:21
求翻译：The specific energy during sputter-deposition of AlN was measured. DC sputtering in general results in lower values of the energy input. For rf sputtering the energy input especially for the case of low powers and high pressure shows a strong decrease.是什么意思？ 待解决
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The specific energy during sputter-deposition of AlN was measured. DC sputtering in general results in lower values of the energy input. For rf sputtering the energy input especially for the case of low powers and high pressure shows a strong decrease.
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
在溅射沉积的AlN的比能进行测定。
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2013-05-23 12:23:18
在AlN的飞溅证言的期间具体能量被测量了。飞溅在一般结果的DC按能量输入的更加低值的。对飞溅能量输入特别是低功率和高压展示事例的rf强的减退。
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2013-05-23 12:24:58
具体能量在AlN的飞溅证言期间被测量了。 飞溅在一般结果的DC按能量输入的更加低值的。 为飞溅能量输入特别是为低力量和高压展示事例的rf强的减退。
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2013-05-23 12:26:38
测定了溅射沉积的氮化铝的特定能量。直流溅射一般导致较低的能量输入的值。射频溅射能量输入，尤其是能力低的情况下和高压力显示强的减退。
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2013-05-23 12:28:18
在 AlN 的喷溅出的唾沫沉积物期间的特定能量被测量。DC 在将军中喷溅导致降低能量输入的价值。对为低功率的案例尤其气急败坏地说能量输入，是的 rf 高压的显示强减少。
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