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2013-05-23 12:21
求翻译：A polishing pad comprises silica particles that have an average diameter of between 1 and 100 nanometers. The silica particles comprise greater than about 30l0, by weight, of the pad. Also, a method of manufacturing a polishing pad comprises the steps of: mixing a pre-polymer and silica particles together.是什么意思？ 待解决
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A polishing pad comprises silica particles that have an average diameter of between 1 and 100 nanometers. The silica particles comprise greater than about 30l0, by weight, of the pad. Also, a method of manufacturing a polishing pad comprises the steps of: mixing a pre-polymer and silica particles together.
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
一种抛光垫包括具有1至100和纳米的平均直径的二氧化硅颗粒。
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2013-05-23 12:23:18
一抛光模包括有在1和100毫微米之间一条平均直径的硅土微粒。硅土微粒由重量，垫包括伟大比关于30l0。并且，制造一抛光模方法包括步：把预聚物和硅土微粒混合在一起。
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2013-05-23 12:24:58
一个擦亮的垫包括有在1和100毫微米之间一条平均直径的硅土微粒。 硅土微粒由重量，垫包括大于关于30l0。 并且，制造一个擦亮的垫方法包括步： 把预聚物和硅土微粒混合在一起。
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2013-05-23 12:26:38
一种抛光垫包括二氧化硅粒子的平均直径 1 至 100 纳米之间。二氧化硅粒子包括大于约 30 升 0，以重量计，垫。此外，制造一种抛光垫的方法包括步骤： 预聚体和白炭黑的颗粒混合在一起。
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2013-05-23 12:28:18
一个擦亮垫包含有介于 1 至 100 毫微米的一个平均直径的硅石微粒。硅石微粒包含大约大于 30l0，按重量计，垫中。另外，制造一个擦亮垫的一种方法包含步骤：一起掺和一个聚合体前和硅石微粒。
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