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2013-05-23 12:21
求翻译：The optical emission spectra of water vapor plasma have shown a strong emission from hydroxyl radicals, which had a very high oxidation potential. Also, it has been proved that after 4H-SiC (0001) substrate was irradiated with water vapor plasma, it was oxidized and the main oxidation product was SiO2 which was much so是什么意思？ 待解决
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The optical emission spectra of water vapor plasma have shown a strong emission from hydroxyl radicals, which had a very high oxidation potential. Also, it has been proved that after 4H-SiC (0001) substrate was irradiated with water vapor plasma, it was oxidized and the main oxidation product was SiO2 which was much so
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
水蒸气等离子体的发射光谱表明，从羟基自由基，其具有非常高的氧化电势强烈的发射。
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2013-05-23 12:23:18
水蒸气等离子光发射光谱显示了从羟基的强的放射，有非常高氧化作用潜力。并且，证明，在4H Sic (0001)以后基体照耀了与水蒸气等离子，它被氧化了，并且主要氧化作用产品是SiO2哪些是更软的，并且更加容易被去除和粒状材料SiC相比。在PAP情况下，等离子辐照区域和软绵绵地磨蚀擦亮同时被举办了。
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2013-05-23 12:24:58
水蒸气血浆光学发射光谱显示了强的放射从羟基，有非常高氧化作用潜力。 并且，它证明，在4H-SiC (0001以后) 基体照耀了与水蒸气血浆，它被氧化了，并且主要氧化作用产品是SiO2哪些是更软的，并且更加容易被去除和粒状材料SiC相比。 在PAP情况下，血浆辐照区域和软绵绵地磨蚀擦亮同时被举办了。
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2013-05-23 12:26:38
水蒸气等离子发射光谱表明一个强大的发射从羟基自由基，有很高的氧化电位。此外，证明了后 4h SiC （0001） 衬底被辐照与水蒸气等离子氧化容易被删除比较散体材料 SiC 和主要的氧化产物是 SiO2，细腻多了。在 PAP，同时进行了等离子体辐照和软的研磨抛光。
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2013-05-23 12:28:18
水蒸汽血浆的光学排放光谱从氢氧根激进分子显示了强排放，有一种很高氧化潜力。另外，是证明那在 4H 电容率之后 (0001)substrate 利用水蒸汽血浆被照射，它被氧化和主要氧化产品是 SiO2 那是更软和更容易的被撤销与容积的材料 SiC 相比。在奶头，血浆发光和擦亮的软的磨料的情况下同时被召开。
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