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2013-05-23 12:21
求翻译：The change of surface morphology was observed using an AFM. To confirm the possibility of atomic-scale flattening of SiC-C faces, CeO2 slurry polishing of a thermally oxidized SiC-C face was also conducted.是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
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The change of surface morphology was observed using an AFM. To confirm the possibility of atomic-scale flattening of SiC-C faces, CeO2 slurry polishing of a thermally oxidized SiC-C face was also conducted.
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
使用AFM观察表面形态的变化。
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2013-05-23 12:23:18
使用AFM，表面形态学的变动被观察了。要证实原子标度铺平的可能性SicC面孔， CeO2泥浆擦亮一张热量地被氧化的SicC面孔也被举办。
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2013-05-23 12:24:58
表面形态学的变动使用AFM被观察了。 要证实可能性原子称铺平SiC-C面孔， CeO2一张热量地被氧化的SiC-C面孔的泥浆擦亮也被举办了。
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2013-05-23 12:26:38
使用原子力显微镜观察表面形貌变化。若要确认原子尺度拼合的 SiC C 面孔的可能性，CeO2 浆抛光的热氧化的 SiC C 面也进行。
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2013-05-23 12:28:18
表面的构词学的变化使用一 AFM 观察。确认 SiC-C 的变单调的原子规模的可能性面对，一张热地氧化的 SiC-C 脸的擦亮的 CeO2 slurry 也被召开。
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