|
关注：1
2013-05-23 12:21
求翻译：Fig. 8a and b shows cross-sectional morphologies of as-sintered and EB treated coatings oxidized at 1700 °C for 10 h. The oxide scale growing on top of as-sintered coatings reached a thickness of about 10–50 μm, that of EB treated coatings was less than 5 μm. The electron beam remelting treatment induced (Ti, Cr)-doped是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
Fig. 8a and b shows cross-sectional morphologies of as-sintered and EB treated coatings oxidized at 1700 °C for 10 h. The oxide scale growing on top of as-sintered coatings reached a thickness of about 10–50 μm, that of EB treated coatings was less than 5 μm. The electron beam remelting treatment induced (Ti, Cr)-doped
问题补充： |
|
2013-05-23 12:21:38
正在翻译，请等待...
|
|
2013-05-23 12:23:18
正在翻译，请等待...
|
|
2013-05-23 12:24:58
。 8a和b展示横截形态学和焊接和EB对待了涂层被氧化在1700年°C为10 h。 生长在和被焊接的涂层顶部的氧化物标度少于5 μm到达了大约10-50 μm，那的厚度EB被对待的涂层是。 电子束回炉的治疗导致 (钛，哥斯达黎加)-被掺杂的NbSi2阶段微粒关于finement和减少涂上地面粗糙度，也许使它更加容易形成SiO2层数。 生长在硅化物涂层的氧化物标度的厚度是表现的征兆氧化作用抵抗 (21)。 越厚实的氧化物标度themore可能是氧化物标度的早散裂。 所以， EB对待了涂层，与稀释剂被氧化的标度在同样氧化作用情况下，显示更好的氧化作用抵抗。
|
|
2013-05-23 12:26:38
图 8a 及 b 显示的横断面形态作为烧结和 EB 治疗涂层氧化为 10h，1700 ℃。氧化铁作为烧结涂层顶部增长达到厚度约 10-50 微米，EB 治疗涂料是小于 5 微米。电子束重熔处理诱导 (Ti、 Cr)-掺杂 NbSi2 相粒子 refinement 和降低涂层表面的粗糙度，可能使它容易形成 SiO2 层。生长在硅化物涂层的氧化膜的厚度是相对值的 [21] 抗氧化性能。厚氧化物规模越有可能是早期的氧化铁皮裂。因此，EB 治疗涂料稀释剂的氧化规模相同氧化条件下，表现出更好的抗氧化性能。
|
|
2013-05-23 12:28:18
正在翻译，请等待...
|
湖北省互联网违法和不良信息举报平台 | 网上有害信息举报专区 | 电信诈骗举报专区 | 涉历史虚无主义有害信息举报专区 | 涉企侵权举报专区
