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2013-05-23 12:21
求翻译：Helium-based water vapor was used as the process gas and was introduced to the space between the electrodes. The diameter of the powered electrode was 8 mm, and it was made of copper alloy. Helium based atmospheric pressure water vapor plasma was generated by applying a 13.56 MHz RF power between the electrodes. The ga是什么意思？ 待解决
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Helium-based water vapor was used as the process gas and was introduced to the space between the electrodes. The diameter of the powered electrode was 8 mm, and it was made of copper alloy. Helium based atmospheric pressure water vapor plasma was generated by applying a 13.56 MHz RF power between the electrodes. The ga
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
氦基于水蒸气用作处理气体和被引入到电极之间的空间。
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2013-05-23 12:23:18
使用了基于氦气的水蒸气，处理气体和被介绍了给在电极之间的空间。供给动力的电极的直径是8 mm，并且它由铜合金制成。氦气基于大气压水蒸气等离子是通过申请在电极之间的13.56 MHz RF力量引起的。供给动力的电极和SiC薄酥饼之间的空白是1 mm。
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2013-05-23 12:24:58
使用了基于氦气的水蒸气，处理气体和被介绍了给空间在电极之间。 供给动力的电极的直径是8毫米，并且它由铜合金制成。 氦气基于大气压水蒸气血浆是通过申请13.56兆赫RF力量引起的在电极之间。 供给动力的电极和SiC薄酥饼之间的空白是1毫米。 表I显示血浆辐照区域的实验性参量。SiC-C面孔的热量氧化作用使用一微型灯annealer也被举办了。
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2013-05-23 12:26:38
基于氦的水蒸气被用作工艺气体，被引入到所述电极之间的空间。供电电极的直径为 8 毫米，和它用铜合金。氦根据大气压力水蒸气等离子是由所述电极之间的 13.56 m h z 射频电源的应用生成的。供电的电极和碳化硅晶片之间的差距是 1 毫米表显示了等离子体辐照的实验参数。采用微型灯退火炉也进行了热氧化的 SiC C 面。
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2013-05-23 12:28:18
基于氦的水蒸汽用作过程气体和被介绍给电极之间的空间。被发动的电极的直径是 8 毫米，它由铜合金做成。氦设立大气压力水蒸汽血浆被应用 13.56 生成电极之间的 MHz RF 力量。被发动的电极和 SiC 晶片之间的差距是 1 毫米。表 I 显示血浆的实验参数 irradiation.Thermal 氧化一张 SiC-C 脸中也使用一个微型灯磨练者被召开。
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