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2013-05-23 12:21
求翻译：It was considered that high substrate temperature was the main reason why many pits were generated in thermal-oxidation while only few were generated in plasma-oxidation.是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
It was considered that high substrate temperature was the main reason why many pits were generated in thermal-oxidation while only few were generated in plasma-oxidation.
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
有人认为，高衬底温度是为什么在热氧化生成了很多坑，而只有少数人血浆中氧化生成的主要原因。
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2013-05-23 12:23:18
正在翻译，请等待...
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2013-05-23 12:24:58
它被考虑高基体温度是主要原因为什么许多坑在热量氧化作用引起了，当仅少数在血浆氧化作用时引起了。
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2013-05-23 12:26:38
认为高衬底温度是虽然只有少数中等离子体氧化生成了许多坑为什么热氧化过程中产生的主要原因。
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2013-05-23 12:28:18
它被认为是那高 substrate 温度是很多坑在热氧化方面被生成的主要理由当仅没几个在血浆氧化方面被生成。
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