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2013-05-23 12:21
求翻译：The details of the plasma-treating method were also shown in this table. This method can create surface defect on anatase phase because the procedure was performed at a lower temperature without phase transformation. The common techniques of ultrahigh vacuum, ion sputtering, and plasma for second step creation consumes是什么意思？ 待解决
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The details of the plasma-treating method were also shown in this table. This method can create surface defect on anatase phase because the procedure was performed at a lower temperature without phase transformation. The common techniques of ultrahigh vacuum, ion sputtering, and plasma for second step creation consumes
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
等离子体处理方法的细节还示于该表中。
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2013-05-23 12:23:18
详细信息的等离子的治疗方法也在这表。 这种方法可以创建anatase表面缺陷的程序阶段,因为是在一个较低的温度没有阶段转型。 通用技术将超高分子量的真空,离子溅射法、和等离子第二步的创建会消耗较多能量、时间,以及特殊的知识。
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2013-05-23 12:24:58
血浆对待的方法的细节在这张桌里也显示了。 因为做法执行了在低温，不用阶段变革，这个方法在anatase阶段可能创造表面损坏。 超高真空、离子飞溅和血浆共同的技术的第二步创作消耗比较更多能量、时间和特别知识。
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2013-05-23 12:26:38
等离子体处理方法的细节也被此表所示。这种方法可以在锐钛矿相含量上创建表面缺陷，因为手术无相变温度较低。超高真空、 离子溅射法、 等离子的第二步创建常见的技术会消耗较多的精力、 时间和专门知识。
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2013-05-23 12:28:18
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