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  • 匿名
关注:1 2013-05-23 12:21

求翻译:Due to these disadvantages, dual damascene may not be possible with the most aggressive features because of limitations imposed by exposure depth of focus on non-planar surfaces, metal fill of high aspect ratio trenches, or CMP planarization.是什么意思?

待解决 悬赏分:1 - 离问题结束还有
Due to these disadvantages, dual damascene may not be possible with the most aggressive features because of limitations imposed by exposure depth of focus on non-planar surfaces, metal fill of high aspect ratio trenches, or CMP planarization.
问题补充:

  • 匿名
2013-05-23 12:21:38
由于这些缺点,双镶嵌可能无法与因为由聚焦于非平面表面曝光深度,高纵横比的沟槽金属填充,或CMP平坦化所施加的限制中最具侵略性的特征。
  • 匿名
2013-05-23 12:23:18
由于这些缺点,双damascene可能不可能,最强功能的限制因为暴露于深度的重点放在非平面表面、金属填充高纵横比的壕沟、或CMP planarization。
  • 匿名
2013-05-23 12:24:58
由于这些缺点,双重波状花纹可能不是可能的与最进取的特点由于曝光景深强加的局限给非平面表面,高长宽比沟槽或者CMP planarization金属积土。
  • 匿名
2013-05-23 12:26:38
由于这些缺点,双重大马士革不可能与最激进的功能由于曝光深度的重点放在非平面表面金属填充高纵横比的战壕或 CMP 平坦化的限制。
  • 匿名
2013-05-23 12:28:18
由于这些不利条件,双波纹以最积极的特征可能不是可能的因为被暴露深度征收的限制着重于非平坦的表面,金属高方面比率的充满掘沟,或 CMP planarization。
 
 
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