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2013-05-23 12:21
求翻译：The two-level copper interconnect structure was fabricated on 125-mm diameter (100) p-type Si, without any active semiconductor devices.是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
The two-level copper interconnect structure was fabricated on 125-mm diameter (100) p-type Si, without any active semiconductor devices.
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
两级铜互连结构上制造125毫米直径的（100） p型硅，而没有任何有源半导体器件。
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2013-05-23 12:23:18
的两级铜互连结构装配在125毫米直径(100)P型si、没有任何活动半导体器件。
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2013-05-23 12:24:58
两层铜互联结构在125毫米直径100 (p类型) Si被制造了，不用任何活跃半导体装置。
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2013-05-23 12:26:38
两级铜互连结构制备了直径 125 毫米 (100) p 型硅，没有任何积极的半导体器件。
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2013-05-23 12:28:18
二种水平的铜使结构互相连接在 125 毫米直径被制作 (100) p-type Si，没有任何活动半导体设备地。
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