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2013-05-23 12:21
求翻译：Using a Plasma Therm 73, 100 nm PECVD SiNx was deposited on top of ILD-1.是什么意思？ 待解决
 悬赏分：1
- 离问题结束还有
Using a Plasma Therm 73, 100 nm PECVD SiNx was deposited on top of ILD-1.
问题补充： |
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2013-05-23 12:21:38
使用等离子体千卡73 ， 100纳米的PECVD氮化硅沉积在ILD -1的顶部。
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2013-05-23 12:23:18
使用一个等离子RM73,100nm PECVD sinx顶部交存的ild-1。
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2013-05-23 12:24:58
使用血浆Therm 73， 100毫微米PECVD SiNx被放置了在ILD-1顶部。
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2013-05-23 12:26:38
使用等离子热 73，100 毫微米 PECVD 氮化硅沉积在 ILD 1。
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2013-05-23 12:28:18
使用一血浆千卡 73， 100 nm PECVD SiNx 在 ILD-1 上面被储存。
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