求翻译：Next the metal-1 structure was capped with a 50-nm SiNx to provide an etch stop during the VIA etch and prevent copper corrosion in the O2 RIE.是什么意思？

待解决

悬赏分：1 - 离问题结束还有

Next the metal-1 structure was capped with a 50-nm SiNx to provide an etch stop during the VIA etch and prevent copper corrosion in the O2 RIE.

问题补充：

匿名	2013-05-23 12:21:38 下一个金属-1结构瓶盖有50纳米的SiN x的VIA期间提供蚀刻停止蚀刻，并防止铜腐蚀的O 2 RIE 。

匿名	2013-05-23 12:23:18 下一个金属盖1结构与一个50纳米制程的sinx蚀刻过程中停止通过蚀刻和防止铜的腐蚀除O2。

匿名	2013-05-23 12:24:58 其次金属1结构用50nm SiNx在O2 RIE加盖提供铭刻中止在期间通过铭刻和防止铜腐蚀。

匿名	2013-05-23 12:26:38 下一步的金属 1 结构被上铺 50 纳米氮化硅在 VIA 蚀刻期间提供蚀刻停止和防止中 O2 反应离子刻蚀铜腐蚀。

匿名	2013-05-23 12:28:18 下一个金属-1 的结构具提供的一 50-nm 的 SiNx 的使惊讶蚀刻停止期间通过在 O2 RIE 中蚀刻和防止铜腐蚀状态。

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