求翻译：The CMP of metal-2 was done with the same process as metal-1, and the remaining Ta on the surface was etched with a CF4 + 5% O2 RIE as before.是什么意思？

待解决

悬赏分：1 - 离问题结束还有

The CMP of metal-2 was done with the same process as metal-1, and the remaining Ta on the surface was etched with a CF4 + 5% O2 RIE as before.

问题补充：

匿名	2013-05-23 12:21:38 金属-2进行CMP用相同的处理金属-1完成，并在表面上的剩余的Ta作为之前进行蚀刻用CF 4 + 5 ％O 2的RIE 。

匿名	2013-05-23 12:23:18 CMP2的金属做的同一过程,金属-1,以及电讯管理局局长在剩余表面蚀刻着一个CF4+5%O2除如前。

匿名	2013-05-23 12:24:58 金属2 CMP做了以过程和金属1一样，并且剩余的Ta在表面铭刻了与CF4 + 5% O2 RIE作为以前。

匿名	2013-05-23 12:26:38 金属-2 CMP 做与金属-1，相同的进程和其余电讯表面上的刻着一个 CF4 + 5 %o2 反应离子刻蚀像以前一样。

匿名	2013-05-23 12:28:18 CMP 金属-2 以相同的过程完成如金属-1，以及在表面上仍然是 Ta 利用一 CF4 + 5% 被蚀刻 O2 RIE 像以前。

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