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  • 匿名
关注:1 2013-05-23 12:21

求翻译:The photoresist was first used to pattern the hard etch mask, which generally was SiNx, as shown in Fig. 4a.是什么意思?

待解决 悬赏分:1 - 离问题结束还有
The photoresist was first used to pattern the hard etch mask, which generally was SiNx, as shown in Fig. 4a.
问题补充:

  • 匿名
2013-05-23 12:21:38
光致抗蚀剂首先被用于图案化的硬蚀刻掩模,其通常是氮化硅,如图所示。
  • 匿名
2013-05-23 12:23:18
第一次的光阻剂用于图案蚀刻掩码的硬盘,一般sinx,如中所示图。 4一个。
  • 匿名
2013-05-23 12:24:58
光致抗蚀剂首先用于仿造坚硬铭刻面具,一般是SiNx,如所显示。 4a.
  • 匿名
2013-05-23 12:26:38
光致抗蚀剂首先用于模式的硬蚀刻面具,后者一般是氮化硅,如图 4a 所示。
  • 匿名
2013-05-23 12:28:18
抗照片是首次的常仿造努力地蚀刻面罩,通常是 SiNx,如无花果所示。4a.
 
 
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